應(yīng)用領(lǐng)域：
1. 高溫材料制備
- 碳材料處理：石墨化碳纖維、高純石墨制品的燒結(jié)（如電極、坩堝），提升導(dǎo)電性與耐高溫性能。
- 碳化硅（SiC）晶體生長(zhǎng)：在真空或惰性氣氛中生長(zhǎng)單晶碳化硅，用于功率半導(dǎo)體器件。
2. 半導(dǎo)體與光電子
- 硅外延片生產(chǎn)：石墨加熱體提供均勻高溫環(huán)境，沉積硅薄膜（如太陽(yáng)能電池、集成電路）。
- 藍(lán)寶石退火：真空下消除藍(lán)寶石襯底內(nèi)應(yīng)力，提升LED外延質(zhì)量。
3. 粉末冶金與陶瓷
- 硬質(zhì)合金燒結(jié)：WC-Co等材料的高溫?zé)�結(jié)，石墨模具耐高溫且不污染工件。
- 特種陶瓷合成：氮化硼（BN）、碳化硼（B₄C）的真空反應(yīng)燒結(jié)，利用石墨發(fā)熱體穩(wěn)定性。
4. 金屬熱處理
- 高溫合金熱處理：鈦合金、鎳基合金的真空退火/固溶處理，避免氧化與脫碳。
- 磁性材料加工：釹鐵硼（NdFeB）永磁體的真空燒結(jié)，優(yōu)化磁性能。
5. 科研與前沿技術(shù)
- 石墨烯制備：化學(xué)氣相沉積（CVD）法生長(zhǎng)石墨烯，石墨爐提供均勻熱場(chǎng)。
- 核材料研究：石墨慢化劑的高溫性能測(cè)試，模擬核反應(yīng)堆極端環(huán)境。

技術(shù)特點(diǎn)：
1. 石墨核心組件設(shè)計(jì)
- 發(fā)熱體與隔熱層：
- 石墨發(fā)熱體：耐高溫（可達(dá)3000°C）、抗熱震，適用于快速升降溫。
- 石墨隔熱屏：多層反射結(jié)構(gòu)（如石墨氈+碳纖維），減少熱損失，熱效率提升30%~50%。
- 爐膛材料：高純等靜壓石墨，低灰分（灰分≤50 ppm），避免污染敏感材料。
2. 真空與氣氛控制
- 真空系統(tǒng)：極限真空度≤5×10⁻³ Pa，配備分子泵+機(jī)械泵組，抑制高溫氧化。
- 氣氛兼容性：支持Ar、N₂、H₂等惰性/還原氣體，流量控制精度±1%，氧含量≤1 ppm。
3. 高溫與均勻性
- 溫度范圍：室溫~3000°C（分階段擴(kuò)展），多區(qū)獨(dú)立控溫（±2°C，高溫段）。
- 熱場(chǎng)均勻性：通過(guò)石墨發(fā)熱體排布優(yōu)化，爐內(nèi)有效區(qū)溫差≤±5°C（2000°C時(shí)）。
4. 高效加熱與冷卻
- 快速升溫：升溫速率可達(dá)20°C/min（2000°C以下），滿足動(dòng)態(tài)工藝需求。
- 冷卻方式：
- 氣冷：高純惰性氣體強(qiáng)制循環(huán)，降溫速率可控（如10°C/min）。
- 水冷系統(tǒng)：爐殼與電極水冷結(jié)構(gòu)，保障設(shè)備長(zhǎng)期穩(wěn)定運(yùn)行。
5. 智能化與安全
- 工藝自動(dòng)化：預(yù)設(shè)多段溫度-真空曲線，支持工藝參數(shù)存儲(chǔ)與遠(yuǎn)程監(jiān)控。
- 實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)：紅外測(cè)溫儀+熱電偶雙重反饋，數(shù)據(jù)記錄與異常報(bào)警（如真空泄漏、過(guò)溫）。
- 安全防護(hù)：
- 石墨防氧化保護(hù)：低溫充氮、高溫真空聯(lián)鎖機(jī)制。
- 過(guò)流/過(guò)壓保護(hù)：自動(dòng)斷電與應(yīng)急氣體注入系統(tǒng)。