臥式真空裂解燒成處理 高溫裂解爐 陶瓷基復(fù)合材料真空裂解設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào):SRL
參考價(jià)格:-
產(chǎn)地:上海
發(fā)布時(shí)間:2025-4-21 13:58:31
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產(chǎn)品介紹:
應(yīng)用領(lǐng)域:
1. 半導(dǎo)體與電子材料
- 高純材料制備:裂解含硅/碳前驅(qū)體(如硅烷、甲烷),沉積高純度硅/碳膜(如太陽(yáng)能電池、半導(dǎo)體器件)。
- 廢電路板處理:真空裂解回收金屬(銅、金)與非金屬組分(樹(shù)脂基材),避免二噁英等有毒氣體排放。
2. 科研與新材料開(kāi)發(fā)
- 碳材料合成:裂解聚合物前驅(qū)體(如聚丙烯腈)制備碳纖維、石墨烯等。
- 納米材料制備:通過(guò)氣相裂解(如Fe(CO)₅)生成金屬納米顆粒,用于催化劑或磁性材料。
3. 新能源與環(huán)保
- 廢舊鋰電池處理:裂解回收正極材料(鈷、鎳、鋰)與石墨,真空環(huán)境防止電解液燃燒爆炸。
- 油泥/危廢處理:含油污泥熱解分離油、水、渣,真空降低沸點(diǎn),減少能耗。
技術(shù)特點(diǎn):
1. 真空系統(tǒng)與反應(yīng)控制
- 真空度范圍:10⁻²~10⁻⁴ Pa,抑制氧化反應(yīng),降低有機(jī)物沸點(diǎn),減少裂解殘留。
- 動(dòng)態(tài)壓力調(diào)節(jié):根據(jù)裂解階段調(diào)整真空度(如升溫期低壓、裂解期微正壓)。
2. 加熱與溫控技術(shù)
- 加熱方式:
- 電阻加熱:硅鉬棒、石墨發(fā)熱體,溫度范圍500~1500°C,適用于連續(xù)裂解。
- 感應(yīng)加熱:局部快速升溫(如金屬催化裂解),溫度均勻性±5°C。
- 多溫區(qū)設(shè)計(jì):分段控溫(預(yù)熱區(qū)、裂解區(qū)、冷卻區(qū)),優(yōu)化裂解效率。
3. 裂解產(chǎn)物處理系統(tǒng)
- 冷凝回收:多級(jí)冷凝塔分離裂解油、可凝氣體(如焦油)。
- 氣體凈化:活性炭吸附+催化燃燒處理非凝性氣體(如H₂、CH₄)。
- 固渣收集:螺旋出渣裝置自動(dòng)排出炭黑/金屬殘?jiān),減少人工干預(yù)。
4. 安全與環(huán)保設(shè)計(jì)
- 防爆結(jié)構(gòu):爐體耐壓設(shè)計(jì)(≥0.6 MPa),配備泄爆閥與氮?dú)鉁缁鹣到y(tǒng)。
- 密封性:高溫磁流體密封或金屬波紋管密封,漏率≤1×10⁻⁴ Pa·m³/s。
- 尾氣處理:集成SCR脫硝、堿液洗滌塔,滿(mǎn)足環(huán)保排放標(biāo)準(zhǔn)。
5. 智能化與自動(dòng)化
- 工藝編程:預(yù)設(shè)多段升溫曲線(xiàn)(如梯度升溫、恒溫裂解),自動(dòng)切換真空與氣氛模式。
- 在線(xiàn)監(jiān)測(cè):質(zhì)譜儀/紅外光譜儀實(shí)時(shí)分析裂解氣體成分,反饋調(diào)節(jié)工藝參數(shù)。
- 遠(yuǎn)程控制:通過(guò)工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)(IIoT)實(shí)現(xiàn)設(shè)備狀態(tài)監(jiān)控與故障預(yù)警。
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- 主營(yíng)行業(yè): 燒結(jié)設(shè)備
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